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  • SC1CIF-Spin Processor
    SC1CIF-Spin Processor

    CIF-Spin Processor轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

    時(shí)間:2024-10-25型號(hào):SC1訪問(wèn)量:9409
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  • CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機(jī)
    CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機(jī)

    CIF 掃描電鏡(SEM)等離子清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程等離子清洗源 設(shè)計(jì),清洗快速、高效、低轟擊損傷,掃描電鏡等離子清洗機(jī)主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/p>

    時(shí)間:2024-10-25型號(hào):CIF-SEM訪問(wèn)量:10176
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  • CPC15/35/80/120/150CIF生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)
    CPC15/35/80/120/150CIF生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)

    CIF生產(chǎn)型等離子清洗機(jī) CIF 推出的中試生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶(hù)和工業(yè)級(jí)客 戶(hù)而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富, 且真空腔體里可分層, 適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景清洗,活化、刻蝕等應(yīng)用。設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下 穩(wěn)定運(yùn)行,產(chǎn)品性能穩(wěn)定,樣品處理重復(fù)性、一致性好。

    時(shí)間:2025-04-28型號(hào):CPC15/35/80/120/150訪問(wèn)量:6564
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  • PH22CIF烤膠機(jī)
    PH22CIF烤膠機(jī)

    CIF烤膠機(jī)是一種控溫加熱 設(shè)備。主要用于半導(dǎo)體硅片, 載玻片,晶片,基片,ITO 導(dǎo) 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

    時(shí)間:2025-04-28型號(hào):PH22訪問(wèn)量:12423
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  • CIF Spin Coater勻膠機(jī)
    CIF Spin Coater勻膠機(jī)

    Spin Coater勻膠機(jī)進(jìn)行滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。

    時(shí)間:2025-04-28型號(hào):CIF Spin Coater訪問(wèn)量:5203
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  • MSC/SC1/2CIF勻膠旋涂?jī)x
    MSC/SC1/2CIF勻膠旋涂?jī)x

    CIF 推出的旋涂機(jī)系列產(chǎn)品轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用,CIF勻膠旋涂?jī)x為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。

    時(shí)間:2025-04-28型號(hào):MSC/SC1/2訪問(wèn)量:8714
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  • UVO5CIF紫外臭氧清洗機(jī)
    UVO5CIF紫外臭氧清洗機(jī)

    紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速高效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。

    時(shí)間:2025-04-28型號(hào):UVO5訪問(wèn)量:7854
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  • CPCP3/plus粉體等離子清洗機(jī)
    CPCP3/plus粉體等離子清洗機(jī)

    CIF專(zhuān)為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專(zhuān)用等離子清洗機(jī),可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級(jí)別的超細(xì)粉體材料,改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無(wú)法處理粉體樣品的問(wèn)題。

    時(shí)間:2025-04-28型號(hào):CPCP3/plus訪問(wèn)量:5635
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